德國(guó)EPK庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀2000詳細(xì)介紹
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀應(yīng)用：
GALVANOTEST 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀，應(yīng)用庫(kù)侖電量分析原理，可以用于測(cè)量幾乎**基體上的電鍍層厚度?；w包括鋼鐵、有色金屬、以及絕緣材料。例如鐵上鎳、鐵上鋅、銅上銀、和環(huán)氧樹脂上的銅等等。
測(cè)量時(shí)只需除去幾乎看不到的一小塊面積的鍍層金屬，而基體不受影響。庫(kù)侖法確保測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確、可靠，儀器使用又十分簡(jiǎn)便。測(cè)量操作由儀器的指令自主完成，操作者不需專業(yè)知識(shí)。
庫(kù)侖法又是*能夠測(cè)量復(fù)合鍍層、多層鍍層的方法。例如測(cè)量在鐵上依次鍍上的銅、鎳、鉻等。
GALVANOTEST 庫(kù)侖測(cè)厚儀保證**測(cè)量和統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的**可靠，并可由 MINIPRINT 微型打印機(jī)打印輸出，還可以打印特征電壓曲線(見法拉第原理圖)，作進(jìn)一步的數(shù)據(jù)分析。
測(cè)量原理：
根據(jù)法拉第原理測(cè)量。其過程類似于電鍍，但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反，是電解鍍。按照鍍層/基體的組合，選擇電解液注入電解池。將電解池置于被測(cè)樣板上。電解池和被測(cè)樣板之間嵌入密封墊圈，其作用一是確定測(cè)量面積，例如1mm，二是防止電解液外泄。電流通過電解液，在一定的面積下產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)。鍍層厚度就直接顯示在數(shù)字顯示器上。
• 可測(cè)實(shí)際應(yīng)用的**鍍層
• 利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
• 符合*標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177
德國(guó)EPK庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀200功能：
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GALVANOTEST 可以測(cè)量 |
2000 |
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可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合 |
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可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層 |
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可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件 |
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預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。 |
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用戶可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù) |
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測(cè)量機(jī)構(gòu)： |
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帶氣泵 |
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測(cè)量面積： |
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密封墊 8 mm2 |
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密封墊 4 mm2 |
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密封片 1 mm2 |
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電解杯 0.25-16 mm2 （可選件） |
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測(cè)量參數(shù)*優(yōu)化調(diào)整： |
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除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào) |
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根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù) |
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可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn) |
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可調(diào)整終點(diǎn)電壓，以抗干擾，適應(yīng)鍍層/基體之間的合金 |
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GALVANOTEST的數(shù)據(jù)存儲(chǔ) |
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可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目 |
10 |
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可存儲(chǔ)的讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 |
2000 |
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儀器斷電后可保持**校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。 |
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統(tǒng)計(jì)計(jì)算： |
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顯示6種統(tǒng)計(jì)值：均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、變異系數(shù)、*大、*小值、讀數(shù)個(gè)數(shù) |
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立即或稍后顯示統(tǒng)計(jì)值 |
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立即或稍后打印讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 |
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顯示、打印年、月、日、時(shí)、分 |
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用于外設(shè)的計(jì)算機(jī)接口： |
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MINIPRINT 微型打印機(jī)接口 |
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RS-232，PC計(jì)算機(jī)接口 |
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連接x-t計(jì)錄儀模擬電壓輸出接口 |
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電解液飽和報(bào)警指示 |
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測(cè)量的不確定性： |
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5%，在8mm2面積下，經(jīng)校準(zhǔn) |
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電源： |
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110/220V，50/60HZ，10W |
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測(cè)量范圍： |
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*大測(cè)量范圍：0.05-75μm |
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